第516章 一把火烧了它？（2/2）

又是老厂子，有感情。

还给他一个董事长职位。

他此时已经想点头，只是强忍着几分矜持。

陈学兵也尽于此，给张汝京递了个眼神。

张汝京领会，拉着邱慈云去一边：“老邱啊，以前没有认可你的路线是我的问题，你看，季明华，周梅生，涂良山这些你的老部下，我都提拔到工程副总裁，厂长。”

俩人聊着走远。

留下梁孟松，盯着那个空荡荡的超洁净室，忽然道：“你确定下个月资金能到位，我就请张总联系aml下新的订单了，等机器到了我还要做很多改动，需要些时间，最好能一次拿三台，定制套件会方便一些。”

“没问题。”陈学兵笃定道。

说着，心里又是惊叹。

这神人居然还能改aml的新机器。

“对了，你那天说t1900做fnft至少要三台联动，如果aml下一代浸没式出来，单次曝光的制程节点更进一步，那就不需要这么多机器了吧？”

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“不能。”梁孟松打量了他一眼，道：“我已经解释过了，需要多台机器这是工序问题，多重曝光的原理是把一个复杂图形拆分成多个简单图形，更好的光刻机只是能让每个工序做更快一些，提高总体产出。”

梁孟松说到这里又再打量他，眼神里有些疑色。

“而且t1900在单次曝光制程上已经很难进步，快到极限了，你不知道？”

陈学兵有点懵了。

我又不是专家，上哪知道去？

而且这才2007年，你跟我说极限？

“不可能吧？不是听说aml在研究下一代吗？”

梁孟松见他瞪眼加迷茫，这才细细解释道：

“光刻机的精度提升，离不开一个公式，叫瑞利判据。

“需要线宽更小，就必须减小分子，扩大分母，分子k目前的进步十分缓慢，λ波长是193nm，af光源，这也无法更改了。

“所以，下一代光刻机，大概率只能从套刻精度上下功夫，提升多重曝光的能力，而单次曝光的极限很难提升了。”

这次梁孟松讲很慢，而且很细，陈学兵边听边想，仍皱眉头。

“那个。水介质，也就是浸没式，不是降低光源波长来提升制程吗？怎么变成提升na值了？”

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“。”

梁孟松的眼神和陈学兵对上，陈学兵恍惚间看到了他中午对着王兴一般的无语。

不，好象还要更无语。

“你从哪学的伪科学？光源的波长进入任何物质都不会被改变，这是七年级物理课内容。”

“。我学文科的，再说我们大陆课程和你们不一样，初二才有物理，能搞懂干式和浸没式的区别就不错了。”陈学兵强行挽尊。

“好吧。”梁孟松倒也没有纠结，反而赞赏起来：“也是，你这样的投资人愿意了解这些，不多见。”

陈学兵口罩下重新微笑，心里也逐渐清淅起来。

“那工艺因子k，听起来是和工艺相关？是各个厂家的技术决定吧？”。”

陈学兵听着，有了判断。

那这个k确实很难产生很大进步了。

波长不能变，na接近极限。

除了通过提升套刻精度搞更多重的曝光，v已经难有提升了。

他这么一想，对v就愈发有危机感。

v光源的波长缩短十几倍，分子不是一下就缩小了十几倍？

“v你了解吗？”陈学兵试探着问道。

他之前问过张汝京同样的问题，到的是否

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